R&D·설비투자 지원 강화…반도체 인력 10년간 15만명 이상 양성
시스템반도체 시장점유율 2030년 10%로…소부장 자립화율 30→50%로
[매일산업뉴스]삼성전자, SK하이닉스 등 국내 반도체 기업들이 오는 2016년까지 5년간 340조원을 투자한다.
정부는 전력·용수 국비지원, 공장 용적률 최대 1.4배 상향, 설비투자 세액공제 2%포인트(p)인상, 법정근로시간 예외인정, 화학물질·안전규제 완화 등 전방위 지원책을 마련하고, 기업들의 투자를 촉진한다.
아울러 연내에 판교에 반도체 인력양성기관인 ‘반도체 아카데미’를 설립, 향후 10년간 반도체 인력 15만명 이상을 양성한다.
또 내년에 3000억원 규모의 민관합동 ‘반도체 상생펀드’로 조성한다. 이를통해 시스템반도체 시장점유율을 현재 3%에서 오는 2030년 10%로 높이고, 반도체 소재·부품·장비(이른바 소부장) 국산화율을 현재 30% 수준에서 50%로 끌어올린다는 계획이다.
이창양 산업통상자원부 장관은 21일 경기도 화성에 있는 반도체 소재 기업 동진쎄미켐 발안공장을 방문한 자리에서 이같은 내용을 담은 '반도체 초강대국 달성전략'을 발표했다. 곽노정 SK하이닉스 대표, 경계현 삼성전자 대표, 이준혁 동진쎄미켐 대표 등과 ‘반도체 산학협력 인력양성 생태계 조성을 위한 양해각서(MOU)’도 체결했다.
좀 더 구체적으로 살펴보면, 정부는 향후 5년간 340조원 이상 민간의 투자를 유인하기 위해 대규모 신·증설이 진행중인 평택·용인 반도체단지의 전력·용수 등 필수 인프라 구축비용에 대해 국비 지원을 검토한다.
또 반도체 단지에서는 용적률을 최대 1.4배(350%→490%)로 상향한다. 평택 캠퍼스의 클린룸을 12개에서 18개로, 용인 클러스터의 클린룸을 9개에서 12개로 늘리는 방안도 추진한다. 이를 통해 약 9000명(클린룸당 1000명 고용)의 고용 증가 효과가 있을 것으로 전망된다.
특히 반도체 설비 및 연구개발(R&D) 투자에 세제 지원도 확대한다. 기존에 대기업이 설비투자를 하면 최대 10%의 세액공제를 받을 수 있었으나 앞으로는 중견기업과 마찬가지로 최대 12%의 세액공제를 받을 수 있게 된다. 현재 지원 대상인 첨단 공정장비 외에 테스트, IP 설계·검증기술 등 관련 설비와 R&D 투자 또한 세액공제 대상에 넣는 방안 또한 추진한다.
또 반도체 단지를 구축할 때 인허가가 늦어지는 문제를 해소하기 위해 중대·명백한 사유가 없을 경우에는 인허가 신속 처리를 의무화하도록 국가첨단전략산업특별법을 개정한다. 산단 유치에 따른 이익을 인접 지방자치단체들이 공유할 수 있도록 광역자치단체장의 특별조정교부금을 활용하는 방안도 적극 추진하기로 했다.
반도체 기업의 투자 활성화를 위한 노동·환경 규제도 개선한다. 현재 일본 수출규제 품목 R&D에 허용되던 특별연장근로제(주 52시간 최대 64시간)를 오는 9월부터 전체 반도체 R&D로 확대하기로 했다. 국제기관 인증을 받은 장비는 취급시설 기준 적용을 면제하는 등 화학물질관리법(화관법)상 유해화학물질 취급시설 규제도 올 연말까지 반도체 특성에 맞도록 대폭 완화한다.
